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壓電晶體生長爐


 

產(chǎn)品簡介:

本設備是公司新研發(fā)的用于鉭酸鋰(LT)和鈮酸鋰(LN)等材料的壓電晶體生長的設備。主要用于CZ法單晶的生產(chǎn),全自動控制系統(tǒng)可提高晶體品質(zhì)和一致性,過程可控穩(wěn)定性高,減少人工干預、工作強度和成本。


 

壓電晶體生長爐 技術參數(shù)

 

技術參數(shù):

爐體內(nèi)腔尺寸:φ800mm×1000mm

外形尺寸:1000mm×1000mm×2500mm

最大長晶尺寸:6英寸

籽晶軸提拉行程:450mm

提拉運動最小線速度:0.01mm/hr

快速提拉速度:200mm/min

籽晶軸轉(zhuǎn)動速度:0.1100r/min

稱重系統(tǒng):稱重傳感器量程20kg;信號放大器顯示精度0.01g

控制軟件:提拉法等徑控制軟件,采用上稱重方法來控制晶體直徑,晶體形狀可隨意設計,PID及運動參數(shù)可隨晶體形狀過渡變化,屏幕上數(shù)據(jù)交叉顯示提供生長過程中數(shù)據(jù)綜合分析工具。

加熱電源:中頻感應加熱

加熱最大輸出功率:30KW

真空系統(tǒng):機械泵抽真空

水冷系統(tǒng):爐腔、加熱線圈流量控制循環(huán)冷卻。
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